ASML CEO:AI对芯片制造的影响将持续10至15年
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全球唯一能够制造极紫外(EUV)光刻设备的公司ASML,其首席执行官克里斯托夫・福凯近日表示,人工智能热潮对社会和芯片产业的影响不会在短期内结束,而是可能在未来10至15年持续展开。他形容目前AI带来的变化 "只是冰山一角"。
福凯指出,要满足未来的人工智能需求,不仅需要更多的AI加速器,还需要改进光学系统、发展更先进的光刻技术。这一判断,也呼应了ASML近期的技术布局 —— 就在此前,ASML与光学伙伴蔡司公布了下一代Hyper NA EUV光刻机的蓝图,该设备预计约10年后准备就绪,可实现5纳米单次曝光。
作为全球光刻机市场的绝对龙头,ASML的产能与订单往往被视为半导体产业景气度的风向标。其"AI影响将持续10–15年"的表态,意味着高端光刻设备与先进制程的需求具备长期支撑。这也从侧面解释了为何存储、显卡、光刻机等半导体上游环节集体涨价扩产 —— 因为下游AI需求被认为具有数十年维度的确定性。对行业而言,这是一轮由AI驱动的结构性增长周期。
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